| 品牌 | 昊量光電 | 產(chǎn)地類別 | 進口 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 | 分辨率 x,y | 691 nm(單次),488 nm(成分) |
| 視場 x,y | 700×700微米 | 分辨率 z | 10 nm(延遲) |
| 視場 z | ±700微米 | 樣本尺寸 | 100×80×t20 mm |
| 激光 | 波長638 nm;輸出0.39 mW以下,Class1 | 尺寸 | 主機505(W)×630(D)×439(H)毫米 |
| 重量 | 41千克 | 功耗 | 本體290VA(不包括PC和其他配件) |
昊量光電/星朗浩宇光波動場三維顯微鏡
昊量光電/星朗浩宇光波動場三維顯微鏡MINUK
無損、無需對焦,實現(xiàn)納米級檢測與超高速三維成像
公司簡介
大塚電子(Otsuka Electronics)是一家日本高科技企業(yè),專注于光學精密測量與分析技術(shù)的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化,核心技術(shù)涵蓋光散射分析、粒徑與Zeta電位測量、薄膜厚度檢測及光譜分析等領(lǐng)域。公司以非接觸、非破壞式光學檢測為核心優(yōu)勢,為半導體、顯示面板、新材料、生物醫(yī)藥等多個行業(yè)提供高精度測量與檢測解決方案。
MINUK該產(chǎn)品
MINUK是日本大塚電子2024年發(fā)布的面向透明/半透納材料納米級檢測的該產(chǎn)品。不僅可以評估納米量級的透明異物和缺陷,單次獲取高度方向的信息,并且可以無損、非接觸、非侵入性地進行測量。另外,還可以高速掃描任何表面并確定測量位置,而無需對焦。
MINUK所使用的觀察方法為大塚所創(chuàng)。通過向測量對象物照射激光,而對象物的厚度和折射率會發(fā)生變化,進而導致波面變化,針對這種變化,使用波前傳感器其進行捕捉,而后使用的軟件進行數(shù)值解析,再現(xiàn)圖像。通過這一設(shè)備,使用者可瞬時獲取1400微米深度方向的對焦信息,在對此信息進行數(shù)碼重新對焦后,可進行三維構(gòu)造的追加驗證。同時,在獲取數(shù)據(jù)后,設(shè)備可在之后通過軟件在任意的深度和位置進行重新對焦。700微米×700微米的寬廣視野,可捕捉到小于0.5微米的線的寬度,實現(xiàn)高分辨率,且由于光學系未使用透鏡,因此成像無失真和像差。--
該產(chǎn)品產(chǎn)品特點
可評價納米級的透明異物、缺陷、傷痕的大小、厚度、形狀。
一次拍照即可瞬時獲取深度方向的信息。
無需對焦,可高速測量。
可非破壞、非接觸、非侵入的測量。
可在任意的面進行高速掃描,輕松決定測量位置。
該產(chǎn)品技術(shù)特點
大視野·高速測量·透明可視化

以往顯微鏡與MINUK比較

多種模式可選

該產(chǎn)品應(yīng)用實例


該產(chǎn)品產(chǎn)品參數(shù)
分辨率 x,y | 691 nm(單次),488 nm(成分) | |||
視場 x,y | 700×700微米 | |||
分辨率 z | 10 nm(延遲) | |||
視場 z | ±700微米 | |||
樣本尺寸 | 100×80×t20 mm | |||
(連接多功能樣品架時) | ||||
樣品臺 | 用于微調(diào)的自動 XY 載物臺 | |||
X:±10 mm Y:±10 mm | ||||
用于粗調(diào)的載物臺 | ||||
X:129 mm Y:85 mm | ||||
激光 | 波長 638 nm | |||
輸出 0.39 mW 以下,Class1 | ||||
(對樣品的照射強度) | ||||
尺寸 | 主機:505(W)×630(D)×439(H) | |||
(寬度×深度×高度)毫米 | ||||
重量 | 41 千克 | |||
功耗 | 本體:290VA | |||
*不包括PC和其他配件 | ||||





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