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昊量光電/星朗浩宇光波動場三維顯微鏡

簡要描述:昊量光電/星朗浩宇光波動場三維顯微鏡采用無損、無需對焦,實現(xiàn)納米級檢測與超高速三維成像的光波前成像方案,適用于透明與半透明材料的三維檢測、缺陷評估和高速表面掃描。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2026-09-03
  • 訪  問  量:22
產(chǎn)品目錄

Product catalog

詳細介紹
品牌昊量光電產(chǎn)地類別進口
應(yīng)用領(lǐng)域綜合分辨率 x,y691 nm(單次),488 nm(成分)
視場 x,y700×700微米分辨率 z10 nm(延遲)
視場 z±700微米樣本尺寸100×80×t20 mm
激光波長638 nm;輸出0.39 mW以下,Class1尺寸主機505(W)×630(D)×439(H)毫米
重量41千克功耗本體290VA(不包括PC和其他配件)

昊量光電/星朗浩宇光波動場三維顯微鏡

昊量光電/星朗浩宇光波動場三維顯微鏡MINUK

無損、無需對焦,實現(xiàn)納米級檢測與超高速三維成像


公司簡介


大塚電子(Otsuka Electronics)是一家日本高科技企業(yè),專注于光學精密測量與分析技術(shù)的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化,核心技術(shù)涵蓋光散射分析、粒徑與Zeta電位測量、薄膜厚度檢測及光譜分析等領(lǐng)域。公司以非接觸、非破壞式光學檢測為核心優(yōu)勢,為半導體、顯示面板、新材料、生物醫(yī)藥等多個行業(yè)提供高精度測量與檢測解決方案。


MINUK該產(chǎn)品


MINUK是日本大塚電子2024年發(fā)布的面向透明/半透納材料納米級檢測的該產(chǎn)品。不僅可以評估納米量級的透明異物和缺陷,單次獲取高度方向的信息,并且可以無損、非接觸、非侵入性地進行測量。另外,還可以高速掃描任何表面并確定測量位置,而無需對焦。


MINUK所使用的觀察方法為大塚所創(chuàng)。通過向測量對象物照射激光,而對象物的厚度和折射率會發(fā)生變化,進而導致波面變化,針對這種變化,使用波前傳感器其進行捕捉,而后使用的軟件進行數(shù)值解析,再現(xiàn)圖像。通過這一設(shè)備,使用者可瞬時獲取1400微米深度方向的對焦信息,在對此信息進行數(shù)碼重新對焦后,可進行三維構(gòu)造的追加驗證。同時,在獲取數(shù)據(jù)后,設(shè)備可在之后通過軟件在任意的深度和位置進行重新對焦。700微米×700微米的寬廣視野,可捕捉到小于0.5微米的線的寬度,實現(xiàn)高分辨率,且由于光學系未使用透鏡,因此成像無失真和像差。--


該產(chǎn)品產(chǎn)品特點


  • 可評價納米級的透明異物、缺陷、傷痕的大小、厚度、形狀。

  • 一次拍照即可瞬時獲取深度方向的信息。

  • 無需對焦,可高速測量。

  • 可非破壞、非接觸、非侵入的測量。

  • 可在任意的面進行高速掃描,輕松決定測量位置。


該產(chǎn)品技術(shù)特點


大視野·高速測量·透明可視化



以往顯微鏡與MINUK比較



多種模式可選



該產(chǎn)品應(yīng)用實例




該產(chǎn)品產(chǎn)品參數(shù)

分辨率 x,y

691 nm(單次),488 nm(成分)

視場 x,y

700×700微米

分辨率 z

10 nm(延遲)

視場 z

±700微米

樣本尺寸

100×80×t20 mm

(連接多功能樣品架時)

樣品臺

用于微調(diào)的自動 XY 載物臺

X:±10 mm Y:±10 mm

用于粗調(diào)的載物臺

X:129 mm Y:85 mm

激光

波長 638 nm

輸出 0.39 mW 以下,Class1

(對樣品的照射強度)

尺寸

主機:505(W)×630(D)×439(H)

(寬度×深度×高度)毫米

重量

41 千克

功耗

本體:290VA

*不包括PC和其他配件


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